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擴散爐、低壓化學氣相沉積設備(LPCVD)
產地：韓國；
有單管和雙管兩個不同的型號，用于科研或者小規模生產。
性能和特點：
- 溫度范圍：500 ~ 1000攝氏度；
- 氣體混合能力(帶有質量流量計)；
- 真空范圍：~ 10-6 Torr；
典型應用：
- 無應力氮化硅；
- LPCVD；
- 退火；
- 氧化；
- 其他...
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