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澤攸科技原位TEM | 金剛石在電擊穿下的失效機制

澤攸科技原位TEM | 金剛石在電擊穿下的失效機制
澤攸科技  2025-10-15  |  閱讀:433

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研究背景

在“雙碳”目標與新一代信息技術自主可控的國家戰(zhàn)略驅動下,高功率、高頻率電子器件對超寬禁帶半導體材料提出迫切需求。金剛石憑借超高擊穿場強(5–10 MV/cm)、優(yōu)異熱導率(~2000 W/m·K)和高載流子遷移率,被視為下一代高功率電子器件的理想候選材料,其發(fā)展已被納入多個國家重點研發(fā)計劃和半導體前沿布局。然而金剛石器件在實際應用中仍面臨嚴峻可靠性挑戰(zhàn)——在極端電場下易發(fā)生電擊穿失效,嚴重制約其工程化與產業(yè)化進程。


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近期研究揭示,金剛石的擊穿失效具有顯著的晶向依賴性:(111)晶面在電-熱耦合作用下優(yōu)先發(fā)生晶格畸變與非晶化,而(100)和(110)晶面則表現出更高穩(wěn)定性。這一發(fā)現凸顯了材料本征各向異性與器件結構設計之間的深層矛盾。當前技術瓶頸在于缺乏對電擊穿過程中應力演化、相變路徑與熱失控機制的原位、原子級理解,難以指導晶向選擇、界面工程與熱管理策略。因此需融合原位表征、多尺度模擬與器件工藝,建立“晶體取向-電熱穩(wěn)定性-失效機制”關聯模型,為高可靠金剛石功率器件的定向設計與國產化替代提供戰(zhàn)略支撐。


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針對上述問題,由中國科學院大學組成的團隊利用澤攸科技原位TEM進行了系統(tǒng)研究,他們首次通過原位電擊穿實驗結合模擬,揭示了鉆石沿(111)晶面發(fā)生應力誘導非晶化的失效機制,為高性能金剛石器件設計提供了關鍵見解。


標題:Failure mechanism of diamond under electrical breakdown

期刊:Cell Reports Physical Science

網址:


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原位電擊穿實驗平臺的構建與實時觀測

研究團隊基于澤攸科技提供的原位雙傾探針桿,在球差校正掃描透射電鏡中構建了可控高電場加載系統(tǒng)。通過聚焦離子束在單晶金剛石中刻蝕溝槽并沉積Pt導電通路,精確限定擊穿區(qū)域;隨后利用該樣品桿精準操控鎢探針與金剛石表面接觸,并施加0–20 V階梯偏壓,成功實現了電擊穿過程的實時、原位觀測。該平臺不僅避免了機械壓力對晶格的干擾,還實現了納秒級電流響應與結構演變的同步捕捉,為揭示金剛石失效機制提供了關鍵實驗基礎。


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圖1 金剛石擊穿實驗的樣品制備與原位實驗流程


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圖2 (100)和(110)晶面金剛石襯底的原位擊穿實驗結果


(111)晶面優(yōu)先失效的應力驅動機制

通過幾何相位分析對擊穿前后區(qū)域的應力分布進行定量解析,研究發(fā)現:在(111)取向金剛石中,平行于晶面的應力(σ<sub>yy,Relative</sub>)首先引發(fā)晶面間距偏移,隨后垂直方向應力(σ<sub>xx,Relative</sub>)進一步破壞面內周期性,最終導致晶格崩塌并轉變?yōu)榉蔷肌韶萍荚浑p傾探針桿在此過程中確保了電場施加的穩(wěn)定性與探針定位的納米級精度,使得高分辨TEM圖像能夠清晰捕捉從晶格畸變到非晶化演化的全過程,首次從實驗上證實了電-熱耦合下(111)面的結構脆弱性源于各向異性應力演化。


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圖3 擊穿前后探針的成分與結構表征


晶向依賴的熱穩(wěn)定性差異與非石墨化轉變路徑

對(100)、(110)和(111)三種晶面的對比實驗表明,擊穿后僅(111)區(qū)域顯著劣化,而(100)和(110)面在更高場強下仍保持結構完整性。電子能量損失譜(EELS)顯示,所有擊穿產物的π*/σ強度比均低于1:3,證實金剛石*直接轉變?yōu)榉蔷级鞘韶萍继峁┑母叻€(wěn)定性電學-力學耦合環(huán)境,使得研究團隊能排除雜質與缺陷干擾,明確將失效行為歸因于本征晶向效應,顛覆了傳統(tǒng)認為高溫下金剛石必然石墨化的認知。


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圖4 (111)晶面金剛石襯底的原位擊穿實驗結果


分子動力學模擬驗證與熱失控機制統(tǒng)一

結合實驗結果,團隊開展分子動力學(MD)模擬,發(fā)現(111)面在2400 K以上即發(fā)生層狀剝離,而(110)和(100)面可耐受至3800 K。模擬揭示的各向異性熱失穩(wěn)路徑與原位實驗觀測高度一致——瞬時焦耳熱引發(fā)熱失控,但電場誘導的局部升溫與晶格取向共同決定了失效起始位置。該“實驗-模擬”閉環(huán)驗證不僅闡明了金剛石電擊穿的本質是應力-熱協同驅動的非晶化,也為高可靠性器件的晶向選擇(如優(yōu)先采用(110)取向)提供了理論依據。


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圖5 金剛石(100)、(110)和(111)暴露表面的熱穩(wěn)定性分子動力學模擬


澤攸科技作為中國本土的高端精密儀器公司,是原位電子顯微鏡表征解決方案的一流供應商,推出的PicoFemto系列的原位透射電子顯微鏡表征解決方案,陸續(xù)為國內外用戶的重磅研究成果提供了技術支持。下圖為該研究成果中用到的澤攸科技原位TEM產品:


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JEOL雙傾探針桿

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