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等離子化學氣相沉積系統-PECVD品牌
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安徽樣本
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等離子化學氣相沉積系統-PECVD
ZYE-1200-PE
為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區管式爐、三通道質量流量混氣系統和真空系統組成。此款PECVD系統用于生長納米線、石墨烯或SiC薄膜等
型號 | ZYE-1200-PE |
工作溫度 | **溫度:1200℃(使用是必須通入惰性氣體以防爐管發生形變)工作溫度:1100℃推薦升溫速率:≤10℃/min |
控溫精度 | ±1℃ |
配置爐管尺寸 | Φ50(外)×1200mm(其他可定制) |
爐膛尺寸 | |
加熱區 | 加熱長度:220mm 恒溫區長度:60-80mm(±3℃) |
控制方式 | PID控制和自整定調節功能,智能化30段可編程控制,具有超溫及段偶功能K型熱電偶,可安裝PC控制軟件對數據進行實時采集(需另購) |
密封系統 | 不銹鋼密封法蘭(包括316L針閥、真空機械壓力表、軟管接頭) |
加熱元件 | 北京首鋼HRE |
**功率 | 3kW |
供氣系統 | 三路高精度MFC 量程0-500sccm(按客戶需求定) |
射頻電源 | 射頻功率:5-500W 射頻頻率:13.56MHz 匹配方式:自動匹配 |
真空系統 | 雙級旋片真空泵(可定制擴散泵 分子泵等) |
額定電壓 | 單相AC220V 50/60Hz |
外形尺寸 | 1600*600*1200mm(長*寬*高) |
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產品質量
售后服務
易用性
性價比
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