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電子束光刻機
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型號

電子束光刻機

品牌

安徽澤攸

產地

安徽

樣本

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安徽澤攸科技有限公司

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    澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(EBL)采用場發射電子槍,配合一體化的高速圖形發生系統實現對半導體晶圓的高速、高分辨光刻。該系統標配高精度激光干涉樣品臺,允許用戶實現大行程高精度拼接和套刻需求,在新材料、前沿物理研究、半導體、微電子、光子、量子研究領域發揮重要作用。

    產品特色

    ▲ 激光干涉樣品臺:先進的激光干涉樣品臺,滿足大行程高精度拼接和套刻需求

    ▲ 場發射電子槍:高分辨場發射電子槍是光刻質量的重要保證

    ▲ 圖形發生器:在保證超高速掃描的同時實現超高分辨率圖案繪制

    樣品臺指標

    ▲ 標配:激光干涉樣品臺

    ▲ 樣品臺行程:≥105 mm

    ▲ 拼接精度:優于50nm(平均值+ 1σ)

    ▲ 套刻精度:優于50nm(平均值+ 1σ)

    電子槍及成像指標

    ▲ 肖特基場發射電子槍:加速電壓20V~30kV;旁側二次電子探測器和鏡筒內電子探測器

    ▲ 圖像分辨率:≤1 nm @ 15 kV;≤1.5 nm @ 1 kV

    ▲ 束流密度:> 7000A/cm2;電子束流≥100nA

    ▲ *小束斑尺寸:≤2nm

    光刻指標

    ▲ 電子束閘:上升沿<100ns

    ▲ 寫視場:≥500×500 um

    ▲ *小單次曝光線寬:<15nm(同時取決于工藝條件)

    ▲ 掃描速度:≥20MHz

    圖形發生器參數

    ▲ 控制核心:高性能FPGA

    ▲ 停留時間*小增量:10ns

    ▲ **掃描速度:50MHz

    ▲ 圖形文件格式:GDSII、DXF、BMP等

    ▲ D/A分辨率:20位

    ▲ 法拉第杯束流測量:包含

    ▲ 支持的寫場大?。?0um~500um

    ▲ 臨近效應校正:可選項

    ▲ 束閘支持:5V TTL

    ▲ 激光干涉位移臺:可選項

    ▲ 掃描方式:順序掃描(Z型)、循環掃描(S型)、螺旋型掃描等多種矢量掃描模式

    ▲ 曝光模式:支持場校準、場拼接,支持套刻,支持多圖層自動曝光

    ▲ 外接通道支持:支持電子束掃描、工件臺移動、束閘通斷、二次電子檢測

    選配附件

    ▲ 配套UPS不間斷電源

    ▲ 配套主動減震臺,*低自然頻率2Hz


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