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旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀
旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀

參考價格

面議

型號

旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀

品牌

成 越

產(chǎn)地

河南

樣本

暫無
鄭州成越科學儀器有限公司

會員

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第4年

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簡單介紹:

旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能,賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。

詳情介紹:

該設(shè)備主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能,賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。

粉體包覆磁控鍍膜儀是通過粉體在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn),以達到粉體表面均勺包覆的效果。

腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜,能快速出料。粉體包覆是指將一種或多種粉體顆粒投入到包覆設(shè)備中,通過物理或化學方法形成一層覆蓋在顆粒表面的物質(zhì)。粉體包覆的目的可以是改變顆粒表面

的性質(zhì)、增加顆粒的穩(wěn)定性、控制顆粒的釋放速率等。


產(chǎn)品名稱

多功能粉體包覆機

產(chǎn)品型號

CY-MSH150-I-RF-Q

控制系統(tǒng)

顯示模式

7英寸觸控屏

磁控濺射

靶材尺寸

2英寸

靶槍類型

標準磁場

適合靶材

非磁性金屬靶材

濺射類型

直流濺射

濺射真空

0.5Pa

濺射速率

以銅為例:7nm/min

膜層厚度

1微米

膜均勻性

±3%

樣品粒度

zui佳尺寸范圍:

樣品總量

500g

烘烤系統(tǒng)

烘烤溫度

500℃任意可設(shè)置

升溫速率

50/S任意可設(shè)置

控溫精度

±1

控溫模式

可編程,程序控溫

旋轉(zhuǎn)升降

旋轉(zhuǎn)速度

0-100RPM任意可設(shè)置

升降角度

0-60°任意可設(shè)置

等離子體

射頻功率

150W(另有:300W,500W,600W,1000W,1500W多種規(guī)格可選購)

功能效用

粉體包覆前,可先對粉體進行表面刻蝕,改性,增強包覆層附著力。

供氣系統(tǒng)

氣體種類

可通:氬氣、氮氣、氧氣等多種氣體

氣體控制

采用質(zhì)量流量控制器對氣體進行流量控制、氣體計量。

真空系統(tǒng)

前級泵

通常為雙極旋片泵,客戶可根據(jù)需要選購其它類型前級泵。

分子泵

通常為國產(chǎn)分子泵,客戶可根據(jù)需要選購其它類型分子泵。

真空計

復合真空計,量程為:10-5Pa105Pa

水冷機組

zui大流量10L-16L,zui大揚程10-25M

供電電源

AC220V/50Hz

設(shè)備尺寸

1800*620*1050

包裝尺寸

1900*720*1150

包裝重量

200kg

隨機配件

1、說明書1

2、隨機配件1

3、配件清單1


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