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LD系列單端連續芯片鍍膜生產線品牌
辰皓真空產地
湖南樣本
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設備特點
成膜好:采用磁控濺射方式，沉積速率快，膜層均勻致密、內應力小;
擴展強:采用模塊化設計，根據不同的工藝要求，可以靈活配備鍍膜腔體；
適用廣:設備可以配備不同的磁控陰極，如圓柱靶、平面靶、圓片靶；
產量大:連續鍍膜產線，生產效率高。
應用領域
可用于半導體表面制備各類金屬薄膜。
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