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Polaris 系列PVD金屬薄膜物理氣相沉積系統主要由真空傳輸平臺，去氣腔室，預清潔腔室和工藝腔室組成，設備采用Cluster Tool架構，可配置多個工藝腔室、預清洗腔室和去氣腔室，適用于科研領域。Polaris 系列PVD為全自動大產能設備，具有wafer自動傳輸，工藝去氣，晶片表面預清潔、薄膜沉積完全自動化等特點。
設備特點
?多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力
?獨立工藝腔室，*多可支持6個工藝模塊
?優異的溫度，顆粒控制能力
?配置靈活、大產能、低運營成本
產品應用
?品圓尺寸：6、8 英寸
?適用材料：銀、鎢化鈦、金、鉑、鈦、氮化鈦、鋁等
?適用工藝：金屬電極、背面金屬化工藝等
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