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PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備

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型號

PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備

品牌

普迪真空

產(chǎn)地

湖北

樣本

暫無
武漢普迪真空科技有限公司

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產(chǎn)品摘要

該設(shè)備主要用于開發(fā)高品質(zhì)、大面積生長金剛石厚膜產(chǎn)品主要用作砂輪修整工具坯料、拉絲模芯坯料、光學(xué)窗口、散熱襯底等工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域。該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及科技型生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)優(yōu)質(zhì)金剛石厚膜新產(chǎn)品。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點(diǎn):

★PLC+觸摸屏方式,完善的邏輯互鎖保護(hù)功能

★機(jī)架上方安裝紅外測溫儀固定裝置,固定測溫儀位置,可方便升降

★該設(shè)備可成功制備直徑達(dá)φ85mm厚度0.1-4mm大面積高質(zhì)量金剛石膜

設(shè)備參數(shù):

★真空腔室:圓柱型固定式真空腔體約為Ф400mm×H500mm/Ф650mm×H500mm

★生長臺:沉積臺為80mm,高度為110mm/沉積臺為100mm,高度為110mm

★抽速:從大氣抽至 1Pa≤20min


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10分

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10分

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