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PD-60/80MP微波等離子體化學氣相沉積設備品牌
普迪真空產地
湖北樣本
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產品摘要
微波等離子體化學氣相沉積設備具有性能先進、功能完善、結構合理，使用方便、安全可靠、外形美觀，特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積(CVD);材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領域。
產品介紹
設備特點：
★微波系統微波頻率2450±25MHz 微波泄漏≤2 mw/cm2
★真空系統工作氣壓范圍0~250Torr,自動穩壓范圍40~250Torr
★氣路系統自帶四路MFC,可擴展至六路
★自帶缺水，缺氣，電源缺相，等離子體偏移，過溫過載，打火等自動保護，生產流程通過工藝配方自動控制，全自動溫度控制，氣壓控制等
★軟件配置西門子PLC+10寸西門子觸摸顯示屏，所有操作均可在觸摸屏上完成
設備參數：
★輸出功率：0.6kw~6kw /0.6kw~15kw 連續可調
★生長臺：沉積臺為80mm，高度為110mm/沉積臺為100mm，高度為110mm
★基片臺：電動升降式水冷直徑80mm鉬基片臺直徑≥50mm/電動升降式水冷直徑100mm鉬基片臺直徑≥75mm
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移動端
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