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E系列是針對科研機構、高校實驗室及小批量試生產需求設計的高精度磁控濺射鍍膜設備，適用于新材料開發、功能薄膜制備（如導電膜、半導體膜、光學膜等）以及精密器件表面改性研究。該設備采用模塊化架構，集成直流/射頻濺射電源、多靶位兼容系統與智能溫控模塊，支持反應濺射工藝（如氧化物、氮化物薄膜沉積），可滿足金屬、合金、陶瓷及化合物納米級薄膜的制備需求。
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