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Primo SSC AD-RIE?是中微于2013年推出的單反應臺電介質刻蝕產品，在Primo AD-RIE?產品技術和Primo平臺概念的基礎上，通過在一個平臺上集成六個單反應臺以優化產能。除了可獨立輸運氣體的單反應臺腔體設計以外，為應對2x納米以下特別是接觸孔刻蝕等關鍵制程的挑戰，該設備還具有以下特性：同步脈沖射頻系統、可冷卻聚焦環工藝組件和甚低壓氣體抽運系統等。Primo SSC AD-RIE有利于處理多層薄膜刻蝕的微負載問題、極端邊緣形貌問題以及接觸孔刻蝕的終端控制問題。Primo SSC AD-RIE已在主流客戶16納米芯片生產線上穩定量產。
具有獨立氣體輸運系統的單反應臺腔體設計
多區氣體調節以及雙區靜電吸盤溫度控制
高抽氣率，大容量分子泵
雙級同步脈沖射頻系統（低頻和高頻）
可冷卻聚焦環工藝組件，提升晶圓邊緣性能
高上下電極面積比，以應用于高深寬比結構刻蝕
高電介質材料刻蝕速率，多手段刻蝕均勻度調節 雙級同步脈沖射頻系統 先進氣體抽運系統，以進一步擴大工藝窗口 中高深寬比結構刻蝕的低成本解決方案競爭優勢
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