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12吋薄膜沉積設備 PECVD-ZARVIS品牌
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ZARVIS應用于邏輯和存儲客戶的多個節點制程，優良的結構設計使腔體有高真空的密閉環境，工藝氣體分布均勻，等離子體穩定，高效率RPS（Clean）和均勻的加熱功能等特點。
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