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PVD鍍膜設(shè)備品牌
丹科真空產(chǎn)地
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PVD鍍膜設(shè)備是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣樁基靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
PVD鍍膜設(shè)備常見的有多弧離子鍍膜設(shè)備，直流磁控濺射鍍膜設(shè)備，中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備等.
該類型設(shè)備是一種高效、無(wú)污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。
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