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PVD鍍膜設備是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣，氬氣樁基靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
PVD鍍膜設備常見的有多弧離子鍍膜設備，直流磁控濺射鍍膜設備，中頻磁控濺射鍍膜設備等.
該類型設備是一種高效、無污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。
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