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機型：XHV系列

鈣鈦礦真空鍍膜設備是鈣鈦礦太陽能電池制備中的關鍵設備之一。通過鍍膜技術，可以制備出高質量的鈣鈦礦層、電子傳輸層、空穴傳輸層等關鍵結構，提高電池的光電轉換效率和穩定性。 除了鈣鈦礦太陽能電池外，真空鍍膜設備還廣泛應用于OLED和OPV等其他類型的太陽能電池制備中，為這些新興的光伏技術提供高質量的薄膜材料。

設備特點

高真空環境：真空鍍膜設備需要在高真空環境下工作，以減少氣體分子對鍍膜過程的影響，提高薄膜的純度和致密度。 鍍膜質量高：磁控濺射技術能夠制備出高質量、高純度的薄膜，適用于鈣鈦礦太陽能電池中對ITO薄膜等高要求材料的沉積。 可控性強：通過調節濺射參數，如濺射電壓、電流、靶材種類和基片溫度等，可以精確控制薄膜的厚度、成分和結構，滿足鈣鈦礦太陽能電池制備中的多樣化需求。 操作簡便：現代鈣鈦礦真空鍍膜設備通常配備PLC+觸摸屏自動控制系統，實現了設備主機與控制的一體化設計，操作簡便，易于維護。