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設備特點
... ?大面積鍍膜，多室多靶位，靈活性大; ?磁導向傳輸系統，平穩可靠; ?鍍膜前有離子源對基片進行表面清洗和活化，提高附著力，改善膜層質量; ?真空室加Polycold捕集水蒸汽，提高抽氣能力; ?便于維修的側裝分子泵和全開式真空室門; ?自行開發的方便的用戶易操作控制軟件; ?真空室的模塊式設計，單點定位，便于拆裝。
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