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TALD-D 雙腔熱型原子層沉積系統品牌
嘉興科民產地
浙江樣本
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ALD系列原子層沉積系統是專門為先進半導體工藝開發的薄膜沉積系統，已在國內高校和科研院所裝機超百臺。以優良的品質，極高的可靠性，超長的使用壽命受到客戶的認可，產品性能和售后服務得到用戶一致好評。
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