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磁控蒸發復合鍍膜機JCPF2600品牌
北京泰科諾產地
北京樣本
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設備型號:JCPF2600
鍍膜方式:磁控濺射
真空腔室結構:SUS304 方箱式
真空腔室尺寸:L2600mmxH700mmxW260mm
極限真空:優于 5.0x10-5Pa
基片臺尺寸:300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片溫度:常溫
濺射靶:矩形平面靶1套,旋轉柱狀靶2套
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積:15000mmx5000mm
供電總功率:≥ 20kW 三相五線制
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磁控濺射設備的主要用途:1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;2.裝飾領域:各種全反射膜及半透明膜等;3.微電子領域:在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術,主要應用在化學氣相沉積
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