參考價格
面議型號
電阻蒸發鍍膜設備ZHD400品牌
北京泰科諾產地
北京樣本
暫無看了電阻蒸發鍍膜設備ZHD400的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
設備型號：ZHD400
鍍膜方式：多源蒸發鍍膜
真空腔室結構：立式方形前開門結構
真空腔室尺寸：L400mm×W440mm×H450mm
加熱溫度：室溫～ 300℃
基片臺尺寸：120mm×120mm
膜厚不均勻性：≤ ±5.0%
蒸發源：2-3 組金屬源 /2-3 組有機源
控制方式：PLC + 觸摸屏控制
占地面積：主機 L1710mm×W850mm×H1850mm
總功率：≥ 8kW
大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備
1. 設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩定，使用維護成本低；
2. 設備配備多組蒸發源，兼容有機蒸發與無機蒸發 , 多源共蒸獲得復合膜。設計專業，功能強大，性能穩定；
3. 適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等。
暫無數據！
磁控濺射設備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領域：在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結構類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應，碳氫化合物在高溫下發生化學反應，生成膜先驅物，當樣品溫度合適時，這些膜先驅物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
在真空領域，衡量真空度的單位豐富多樣，各自有著獨特的起源與應用場景。真空的衡量標準（一）常用單位帕（Pa）作為國際單位制中壓力的基本單位，定義為 1 牛頓的力均勻而垂直地作用在 1 平方米的面積上所產
多晶硅和單晶硅都是半導體材料，是電子工業中非常重要的材料，但它們的制備工藝、物理性質以及應用領域有所不同。晶體是由原子、離子或分子在三維空間中按照一定的周期性排列而形成的固體。這種有序的排列賦予晶體特
原子層沉積（ALD）是一種能夠從氣相中沉積各種薄膜材料的技術。原子層沉積在新興的半導體和能源轉換技術中顯示出巨大的前景。基于連續的自限性反應，ALD在高縱橫比結構上提供了出色的保形性，在埃級的厚度控制
電阻蒸發鍍膜設備ZHD400的工作原理介紹？電阻蒸發鍍膜設備ZHD400的使用方法？電阻蒸發鍍膜設備ZHD400多少錢一臺？電阻蒸發鍍膜設備ZHD400使用的注意事項電阻蒸發鍍膜設備ZHD400的說明書有嗎？電阻蒸發鍍膜設備ZHD400的操作規程有嗎？電阻蒸發鍍膜設備ZHD400的報價含票含運費嗎？電阻蒸發鍍膜設備ZHD400有現貨嗎？電阻蒸發鍍膜設備ZHD400包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
