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鈣鈦礦太陽能電池磁控鍍膜設備JCP500品牌
北京泰科諾產地
北京樣本
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設備名稱:鈣鈦礦太陽能電池磁控濺射設備(不與手套箱連接)
設備型號:JCP500
鍍膜方式:磁控濺射
真空腔室結構:立式圓腔前開門結構 側置抽氣系統
真空腔室尺寸:Φ500mm×H420mm
基片臺尺寸:Φ150mm
膜厚不均勻性:≤±5.0%(100mmx100mm范圍內)
基片臺加熱:室溫~500℃
基片臺水冷:10℃~30℃
濺射靶:φ3英吋靶*3支 兼容DC/MF/RF濺射
晶振膜厚監控儀:國產或進口(可選)
控制方式:PLC + 觸摸屏控制
占地面積:L1750mm×W800mm×H1900mm
總功率:≥10kW
1.國內技術**、市場占有率**,設計優化,性能穩定,使用維護成本低。
2.廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池及復合功能薄膜材料制備等應用。
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磁控濺射設備的主要用途:1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;2.裝飾領域:各種全反射膜及半透明膜等;3.微電子領域:在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術,主要應用在化學氣相沉積
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