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大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備
1. 設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩定，使用維護成本低；
2. 設備配備多組蒸發源，兼容有機蒸發與無機蒸發 , 多源共蒸獲得復合膜。設計專業，功能強大，性能穩定；
3. 適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等。
設備型號：ZHD400
鍍膜方式：多源蒸發鍍膜
真空腔室結構：立式方形前開門結構
真空腔室尺寸：L400mm×W440mm×H450mm
加熱溫度：室溫～ 300℃
基片臺尺寸：120mm×120mm
膜厚不均勻性：≤ ±5.0%
蒸發源：2-3 組金屬源 /2-3 組有機源
控制方式：PLC + 觸摸屏控制
占地面積：主機 L1710mm×W850mm×H1850mm
總功率：≥ 8kW
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磁控濺射設備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領域：在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結構類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應，碳氫化合物在高溫下發生化學反應，生成膜先驅物，當樣品溫度合適時，這些膜先驅物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
CVD(化學氣相沉積)是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，它是很簡單的:兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內，
有人曾這樣形容磁控濺射技術——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面
近年來，新型太陽能電池技術不斷發展，鈣鈦礦電池作為其中的代表之一，一度成為人們關注的熱點。鈣鈦礦電池以其良好的光電轉化效果、簡單的制備工藝和原材料的充足性，被譽為是下一代光伏電池的主流技術之一。近日，
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