參考價格
面議型號
高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500品牌
北京泰科諾產地
北京樣本
暫無看了高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
設備型號：JCPY500
真空腔室結構：后置抽氣系統
真空腔室尺寸：Φ500mm×H450mm帶 Load-Lock 功能 支持單片或多片進取樣
加熱溫度 ：室溫～ 500℃
基片臺尺寸：Φ150mm
膜厚不均勻性 ：Φ100mm 范圍內≤ ±5.0%
濺射靶 ：Φ3、Φ4 英寸磁控靶 2-4 支（可選）
工藝氣體 ：3 路氣體流量控制
控制方式 ： PLC/PC（可選）
占地面積 （主機） ：L1800mm×W800mm×H1845mm
總功率 ：≥ 15kW
大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備
1. 可提供工藝技術支持，及良好售后服務；
2. 設備結構緊湊，占地面積小，性價比高，性能穩定，使用維護成本低；
3. 單靶濺射 / 多靶依次濺射或共同濺射，兼容 DC/MF/RF 濺射等功能 。
4. 可制備單層及多層金屬膜、介質膜、半導體膜、耐熱合金膜、硬質膜、耐腐蝕摸、透明導電膜，如鈣鈦礦空穴傳輸層、金屬電極以及透明導電層ITO膜層的制備等”；
暫無數據！
磁控濺射設備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領域：在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結構類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應，碳氫化合物在高溫下發生化學反應，生成膜先驅物，當樣品溫度合適時，這些膜先驅物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
CVD(化學氣相沉積)是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，它是很簡單的:兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內，
有人曾這樣形容磁控濺射技術——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面
近年來，新型太陽能電池技術不斷發展，鈣鈦礦電池作為其中的代表之一，一度成為人們關注的熱點。鈣鈦礦電池以其良好的光電轉化效果、簡單的制備工藝和原材料的充足性，被譽為是下一代光伏電池的主流技術之一。近日，
高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500的工作原理介紹？高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500的使用方法？高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500多少錢一臺？高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500使用的注意事項高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500的說明書有嗎？高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500的操作規程有嗎？高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500的報價含票含運費嗎？高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500有現貨嗎？高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
