參考價格
面議型號
鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200品牌
北京泰科諾產地
北京樣本
暫無看了鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
1. 技術先進、設計優化，性價比高，性能穩定，使用維護成本低。
2.大面積，復合型，批量制備，潔凈真空不同功能復合涂層制備，可獲得更高電池轉換效率。
3.廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池及復合功能薄膜材料制備等應用。
設備名稱：鈣鈦礦大面積蒸發設備
設備型號：ZDF3200（單片/多片）
鍍膜方式：線源蒸發
真空腔室結構：臥式方箱結構
真空腔室尺寸：L810mm×W700mm×H670mm（鍍膜室）
極限真空：優于5.0x10-?Pa
基片臺尺寸：330mm×420mm
基片溫度：80℃以下
膜厚不均勻性：≤±5.0%（330mmx420mm范圍內）
蒸發源：高低溫線性蒸發源
膜厚監控系統：國產或進口多探頭（可選）
控制方式：PLC + 觸摸屏控制
占地面積：L3200mm×W2000mm×H1800mm
總功率：≥40KW
暫無數據！
磁控濺射設備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領域：在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結構類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應，碳氫化合物在高溫下發生化學反應，生成膜先驅物，當樣品溫度合適時，這些膜先驅物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
CVD(化學氣相沉積)是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，它是很簡單的:兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內，
有人曾這樣形容磁控濺射技術——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面
近年來，新型太陽能電池技術不斷發展，鈣鈦礦電池作為其中的代表之一，一度成為人們關注的熱點。鈣鈦礦電池以其良好的光電轉化效果、簡單的制備工藝和原材料的充足性，被譽為是下一代光伏電池的主流技術之一。近日，
鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200的工作原理介紹？鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200的使用方法？鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200多少錢一臺？鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200使用的注意事項鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200的說明書有嗎？鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200的操作規程有嗎？鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200的報價含票含運費嗎？鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200有現貨嗎？鈣鈦礦大面積蒸發設備ZDF3200包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
