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鈣鈦礦太陽能電池蒸發設備ZHD500品牌
北京泰科諾產地
北京樣本
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設備名稱:鈣鈦礦太陽能電池蒸發設備(不與手套箱連接)
設備型號:ZHD500
鍍膜方式:金屬+有機蒸發
真空腔室結構:立式方形前開門結構
真空腔室尺寸:L500mmxW500mmxH450mm
基片臺尺寸:220mmx220mm
膜厚不均勻性:≤±5.0%(210mmx210mm范圍內)
基片臺加熱:室溫~300℃(選配)
基片臺水冷:10℃~30℃
蒸發源/濺射靶:金屬+有機共6組(選配);有機配溫控式加熱電源,金屬電源(國產或進口)
晶振膜厚監控儀:國產或進口多探頭(可選)
控制方式:PLC + 觸摸屏控制
占地面積:L1840mmxW800mmxH1920mm
總功率:≥12kW
1.國內技術**、市場占有率**,設計優化,性能穩定,使用維護成本低。
2.廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池及復合功能薄膜材料制備等應用。
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磁控濺射設備的主要用途:1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;2.裝飾領域:各種全反射膜及半透明膜等;3.微電子領域:在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術,主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦(perovskite),這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski,作為光伏材料的鈣鈦礦,實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關系,這是一類與鈣鈦礦(CaTiO3)晶體結構類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應,碳氫化合物在高溫下發生化學反應,生成膜先驅物,當樣品溫度合適時,這些膜先驅物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻,膜層致密。CV
CVD(化學氣相沉積)是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,大多數金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說,它是很簡單的:兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內,
有人曾這樣形容磁控濺射技術——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition)的一種,其原理是:用帶電粒子加速轟擊靶材表面
近年來,新型太陽能電池技術不斷發展,鈣鈦礦電池作為其中的代表之一,一度成為人們關注的熱點。鈣鈦礦電池以其良好的光電轉化效果、簡單的制備工藝和原材料的充足性,被譽為是下一代光伏電池的主流技術之一。近日,