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真空退火爐/釬焊爐VTHK550品牌
北京泰科諾產地
北京樣本
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設備名稱：真空退火 / 釬焊爐
設備型號：VTHK550
真空腔室結構：不銹鋼雙層水冷
真空腔室尺寸：Φ550mm×L700mm
爐膛尺寸：Ф350mm×H350mm
等溫區尺寸：Ф250mm×H350mm
加熱溫度：室溫～ 1200℃，可調可控
控制方式：PLC 控制 / 工控機全自動控制（可選）
占地面積：L1600mm×W800mm×H1700mm
總功率：≥ 40kW
廣泛用于高校、科研院所及企業的研發小批量生產
高真空度、高加熱溫度、高控制精度、高穩定性
1. 適用精密材料及器件、工模具、鈦合金及醫療、航空件等高真空、 無氧化退火；
2. 高真空保護狀態下進行金剛石刀具、精密儀器部件、電子元件等 釬焊領域。
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磁控濺射設備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領域：在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結構類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應，碳氫化合物在高溫下發生化學反應，生成膜先驅物，當樣品溫度合適時，這些膜先驅物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
CVD(化學氣相沉積)是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，它是很簡單的:兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內，
有人曾這樣形容磁控濺射技術——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面
近年來，新型太陽能電池技術不斷發展，鈣鈦礦電池作為其中的代表之一，一度成為人們關注的熱點。鈣鈦礦電池以其良好的光電轉化效果、簡單的制備工藝和原材料的充足性，被譽為是下一代光伏電池的主流技術之一。近日，
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