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一、整機簡述 特點/用途 ZHD400高真空電阻蒸發鍍膜設備，配4組蒸發源；適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機膜等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗等。 該設備主機與控制一體化設計，PLC觸摸屏控制，操控方便，結構緊湊，占地面積小。設備廣泛應用于高校、科研院所的教學、科研實驗以及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等，深受廣大用戶好評。 其主要用途有： 1. 適用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復合膜，例：銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等； 2. 適用于太陽能電池、LED的研究和實驗； 3. 適用于有機材料等蒸發； 4. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜；例：氧化鉬、氟化鋰等； 5. 適用于掃描電鏡制樣等。 二、設備主要技術參數 1.真空腔室 304真空專用不銹鋼，L400×W440×H450mm；方形前開門結構； 2.真空系統 磁懸浮分子泵+直聯旋片泵+高真空擋板閥，“兩低一高”數顯復合真空計； 3.真空指標 極限真空優于6.6×10-5Pa（設備空載抽真空24小時）； 設備升壓率≤0.8Pa/h； 設備保壓：停泵12小時候后，真空≤10Pa； 4.抽速 空載從大氣抽至8.0×10-4Pa≤45min； 5.基片臺 抽屜式結構，承載小于120×120mm基片；  電機驅動基片臺旋轉，旋轉速度0～20轉/分鐘可調； 手動升降，升降基片臺可調節范圍70mm ； 可根據要求定制1種掩膜板（客戶提供掩膜圖案）； 6.基片臺加熱 加熱溫度：300℃，PID智能溫控閉環控制； 7.蒸發源 ①金屬源：水冷銅電極 2組； 逆變式蒸發電源，功率3000W； 1臺； ②有機源：有機蒸發源（ 溫度600°），2組； 有機控溫蒸發電源：2套（獨立PID智能溫控蒸發）； ③每組蒸發源配氣動擋板及源間防污隔板；