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真空腔室尺寸：φ650×H650mm； 極限真空、抽氣速率：6.0×10-5Pa； 漏率：設備升壓率≤0.8Pa/h； 整機功率：約40/60kW (視具體配置)；
多弧離子鍍膜機特點/用途： 該系統為高真空新型陰極弧源 +磁控濺射+離子源及直流脈沖偏壓電源輔助聯合鍍膜系統，該系統廣泛用于精密刀具和模具或軸承等外表面內表面上沉積高性能耐磨擦、耐腐蝕陶瓷、金屬功能導電薄膜等，如TiAlN、TiN、Cu、Al、ITO等； 多弧離子鍍膜機功能強大，可靈活集成主流先進的硬件配置及工藝技術路線，便于開發及應用先進納米薄膜技術；是一款理想納米材料科學應用平臺； 多弧離子鍍膜機設計集成度高，開放式工藝菜單編輯，一鍵化操作，工藝參數存儲及曲線查詢，完備的保護，非常適合科研、中試及批量工業生產之需求；
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