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真空系統：國產或進口分子泵/擴散泵+羅茨泵+機械泵高真空系統；
極限真空：優于2.0×10-4Pa；
抽速：從大氣到3.3×10-3Pa≤30min， 升壓率關機12小時后真空度≤10Pa；
工件架尺寸：可根據尺寸定制；
一、產品概述
1、主要用途： 適合在大面積玻璃、亞克力板、PC表面沉積納米級金屬膜（金、銀、銅、鋁、鉻等）、半導體膜（ITO、AZO等）、介質膜（氧化鈦、氧化鉻、氧化鎢）、電致變色薄膜層等，廣泛應用在光伏、光電、觸摸屏、半導體、平板電極及建筑裝飾玻璃等行業。
2、產品優點及特點： 采用磁控濺射方式，沉積速率快，膜層均勻致密，光亮度好，在大面積上的鍍膜不均勻性≤±5%，特別適合有功能性要求的膜層制備及控制；例：鍍膜導電膜層，電阻值均勻可控，可以控制為穩定電阻，也可控制為漸變電阻。加上自主開發全自動控制系統可實現一鍵化操作；保證產品鍍膜性能連續穩定；設備采用模塊化設計，可根據生產量增加鍍膜模塊及其他拓展模塊，設備易拆卸、維護保養。
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