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管式化學氣相沉積設備 100/CVD200品牌
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管式化學氣相沉積設備 100/CVD200 鍍膜方式：化學氣相沉積； 真空腔室結構：高純石英管/耐溫耐腐蝕不銹鋼； 真空腔室尺寸：Φ100mm×L1000mm、Φ200mm×L1600mm； 基片臺尺寸： 2英寸 / 定制生長車（分層）； 一、產品特點： 該設備是利用高溫化學氣相沉積技術，石英管生長室清潔無污染；多路氣體控制合理；PID加熱溫度高控溫。高真空環境，兼具真空退火爐功能。 二、主要用途： 可制備用于光電子、石墨烯、微波器件等高純薄膜。 三、適用范圍： 適合于各單位實驗室、高等院校實驗室、教學等的項目科研、產品中試之用。 四、技術參數：
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