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管式化學(xué)氣相沉積設(shè)備 100/CVD200品牌
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管式化學(xué)氣相沉積設(shè)備 100/CVD200 鍍膜方式：化學(xué)氣相沉積； 真空腔室結(jié)構(gòu)：高純石英管/耐溫耐腐蝕不銹鋼； 真空腔室尺寸：Φ100mm×L1000mm、Φ200mm×L1600mm； 基片臺(tái)尺寸： 2英寸 / 定制生長(zhǎng)車(chē)（分層）； 一、產(chǎn)品特點(diǎn)： 該設(shè)備是利用高溫化學(xué)氣相沉積技術(shù)，石英管生長(zhǎng)室清潔無(wú)污染；多路氣體控制合理；PID加熱溫度高控溫。高真空環(huán)境，兼具真空退火爐功能。 二、主要用途： 可制備用于光電子、石墨烯、微波器件等高純薄膜。 三、適用范圍： 適合于各單位實(shí)驗(yàn)室、高等院校實(shí)驗(yàn)室、教學(xué)等的項(xiàng)目科研、產(chǎn)品中試之用。 四、技術(shù)參數(shù)：
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