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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備TEMD600品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備型號(hào)：TEMD600
鍍膜方式：E 型電子槍
真空腔室結(jié)構(gòu)：立式圓柱形側(cè)開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)
真空腔室尺寸：Φ600mm×H750mm
加熱溫度：室溫～ 300℃
基片臺(tái)尺寸：平板型 Φ350mm，或球罩型基片臺(tái) ( 可選 )
膜厚不均勻性：≤ ±5.0%
考夫曼離子源：可選
蒸發(fā)源：電子槍 10KW，６穴坩堝，國(guó)產(chǎn)／進(jìn)口（可選）， 配２套電阻蒸發(fā)
控制方式：PLC/PC（可選）
占地面積：L2500mm×W1600mm
總功率：≥ 17kW
大專(zhuān)院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。
1. 設(shè)備一體化設(shè)計(jì)，占地面積小，性?xún)r(jià)比高，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；
2. 可用于生產(chǎn)線(xiàn)前期工藝試驗(yàn)等；
3. 實(shí)驗(yàn)室制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體膜、光學(xué)薄膜等，可同手套箱復(fù)合使用。
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磁控濺射設(shè)備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領(lǐng)域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領(lǐng)域：在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個(gè)有點(diǎn)拗口的名字取自俄羅斯礦物學(xué)家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實(shí)際上和鈣、鈦、礦三個(gè)字都沒(méi)太大關(guān)系，這是一類(lèi)與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結(jié)構(gòu)類(lèi)
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應(yīng)，碳?xì)浠衔镌诟邷叵掳l(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成膜先驅(qū)物，當(dāng)樣品溫度合適時(shí)，這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學(xué)氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
在真空領(lǐng)域，衡量真空度的單位豐富多樣，各自有著獨(dú)特的起源與應(yīng)用場(chǎng)景。真空的衡量標(biāo)準(zhǔn)（一）常用單位帕（Pa）作為國(guó)際單位制中壓力的基本單位，定義為 1 牛頓的力均勻而垂直地作用在 1 平方米的面積上所產(chǎn)
多晶硅和單晶硅都是半導(dǎo)體材料，是電子工業(yè)中非常重要的材料，但它們的制備工藝、物理性質(zhì)以及應(yīng)用領(lǐng)域有所不同。晶體是由原子、離子或分子在三維空間中按照一定的周期性排列而形成的固體。這種有序的排列賦予晶體特
原子層沉積（ALD）是一種能夠從氣相中沉積各種薄膜材料的技術(shù)。原子層沉積在新興的半導(dǎo)體和能源轉(zhuǎn)換技術(shù)中顯示出巨大的前景。基于連續(xù)的自限性反應(yīng)，ALD在高縱橫比結(jié)構(gòu)上提供了出色的保形性，在埃級(jí)的厚度控制
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