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設備名稱：粉體鍍膜設備 設備型號：JGCF800 鍍膜方式：磁控濺射 真空腔室結構：Φ800mmxL800mm 粉體 / 顆粒尺寸：≥ 20um 物料裝載：滾筒震動式 產量：500g 加熱烘烤：可選 濺射源：矩形 / 圓柱靶 占地面積：L1620mm×W1060mm×H1900mm 總功率：≥ 20kW 控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 ) 報警及保護系統：完善的邏輯程序互鎖保護系統
1. 在微米級以上粉體顆粒表面沉積各種納米級單層及多層導電膜、半導體膜、絕緣膜等；
2. 系統可用于粉體顆粒表面金屬化，達到表面導電，例：碳化硅表面鍍鈦，氧化鋁表面鍍鎳等 ;
3. 系統可用于粉體顆粒表面反射率的改變，應用于化妝品、汽車等高端外觀粉體涂料，
例：玻璃微珠鍍氧化鈦等；
4. 系統可用于粉體顆粒表面層成份改變，應用于新型合金材料改變其中某一成份含量；
5. 系統可用于粉體顆粒表面沉積新材料，有效提高粉體固化粘結強度，例：金剛石粉鍍鉻等
6. 廣泛應用于粉體燒結、3D 打印原材料、粉體表面光學性能改變等行業及研究方向。
我公司**技術，粉體顆粒涂覆技術國內**，微米級粉體包覆率大于 90%，結合力好；
已能實現產品系列化滿足科研及批量化生產之需求。
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磁控濺射設備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領域：在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結構類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應，碳氫化合物在高溫下發生化學反應，生成膜先驅物，當樣品溫度合適時，這些膜先驅物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
在真空領域，衡量真空度的單位豐富多樣，各自有著獨特的起源與應用場景。真空的衡量標準（一）常用單位帕（Pa）作為國際單位制中壓力的基本單位，定義為 1 牛頓的力均勻而垂直地作用在 1 平方米的面積上所產
多晶硅和單晶硅都是半導體材料，是電子工業中非常重要的材料，但它們的制備工藝、物理性質以及應用領域有所不同。晶體是由原子、離子或分子在三維空間中按照一定的周期性排列而形成的固體。這種有序的排列賦予晶體特
原子層沉積（ALD）是一種能夠從氣相中沉積各種薄膜材料的技術。原子層沉積在新興的半導體和能源轉換技術中顯示出巨大的前景。基于連續的自限性反應，ALD在高縱橫比結構上提供了出色的保形性，在埃級的厚度控制
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