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納米超硬膜涂層設(shè)備GDM900品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備名稱:納米超硬涂層設(shè)備
設(shè)備型號(hào):GDM900
真空腔室尺寸:Φ900mm×H930mm
真空系統(tǒng):國產(chǎn) / 進(jìn)口分子泵 + 羅茨泵 + 機(jī)械泵高真空系統(tǒng)
極限真空:優(yōu)于 8.0×10-5Pa
抽速:從大氣到 5.0×10-3Pa ≤ 25min 升壓率關(guān)機(jī) 12 小時(shí)后真空度≤ 10Pa
工件架尺寸:8 ~ 12 工位,3 軸聯(lián)動(dòng)工件架二套;配專用工件車
工件烘烤溫度:室溫~ 500℃,可調(diào)可控(PID 控溫)
配置:新型弧源 6-12 只可選、離子源、偏壓
系統(tǒng):全自動(dòng)控制系統(tǒng),個(gè)性化的 Tech-Coating 控制菜單,安全保護(hù)系統(tǒng)
占地面積:L4000mm×W3000mm

該設(shè)備可制備TiN\CrN\AlCrN\ZrN\TiC\TiCN\TiAlN\TiAlCN\DLC膜等,非常適合生產(chǎn)企業(yè)大批量在刀具(鉆頭、銑刀、拉刀、絲錐、滾齒刀、車刀、刀粒等)、高精工模具(沖壓模具、剪切模具、成型模具、注塑模具等)及其他關(guān)鍵部件上鍍制單層/多層硬質(zhì)涂層、耐腐蝕涂層等功能薄膜。

設(shè)備采用全自動(dòng)的控制方式,先進(jìn)的工藝流程控制模式,性能穩(wěn)定可靠,操作簡單方便。并集成先進(jìn)的新型弧源鍍膜技術(shù)和離子輔助前處理鍍膜技術(shù),可鍍高質(zhì)量、成膜致密、結(jié)合力好、硬度高的硬質(zhì)涂層,大幅度提高工具及刀具使用壽命。該設(shè)備集成國際**技術(shù),性能國內(nèi)**。
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磁控濺射設(shè)備的主要用途:1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;2.裝飾領(lǐng)域:各種全反射膜及半透明膜等;3.微電子領(lǐng)域:在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù),主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦(perovskite),這個(gè)有點(diǎn)拗口的名字取自俄羅斯礦物學(xué)家Perovski,作為光伏材料的鈣鈦礦,實(shí)際上和鈣、鈦、礦三個(gè)字都沒太大關(guān)系,這是一類與鈣鈦礦(CaTiO3)晶體結(jié)構(gòu)類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應(yīng),碳?xì)浠衔镌诟邷叵掳l(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成膜先驅(qū)物,當(dāng)樣品溫度合適時(shí),這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學(xué)氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻,膜層致密。CV
在真空領(lǐng)域,衡量真空度的單位豐富多樣,各自有著獨(dú)特的起源與應(yīng)用場景。真空的衡量標(biāo)準(zhǔn)(一)常用單位帕(Pa)作為國際單位制中壓力的基本單位,定義為 1 牛頓的力均勻而垂直地作用在 1 平方米的面積上所產(chǎn)
多晶硅和單晶硅都是半導(dǎo)體材料,是電子工業(yè)中非常重要的材料,但它們的制備工藝、物理性質(zhì)以及應(yīng)用領(lǐng)域有所不同。晶體是由原子、離子或分子在三維空間中按照一定的周期性排列而形成的固體。這種有序的排列賦予晶體特
原子層沉積(ALD)是一種能夠從氣相中沉積各種薄膜材料的技術(shù)。原子層沉積在新興的半導(dǎo)體和能源轉(zhuǎn)換技術(shù)中顯示出巨大的前景。基于連續(xù)的自限性反應(yīng),ALD在高縱橫比結(jié)構(gòu)上提供了出色的保形性,在埃級(jí)的厚度控制
納米超硬膜涂層設(shè)備GDM900的工作原理介紹?
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