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納米超硬膜涂層設備GDM1000品牌
北京泰科諾產地
北京樣本
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設備名稱：納米超硬涂層設備
設備型號：GDM1000
真空腔室尺寸：Φ1000mm×H1200mm
真空系統：國產 / 進口分子泵 + 羅茨泵 + 機械泵高真空系統
極限真空：優于 8.0×10-5Pa
抽速：從大氣到 5.0×10-3Pa ≤ 25min 升壓率關機 12 小時后真空度≤ 10Pa
工件架尺寸：8 ～ 12 工位，3 軸聯動工件架二套；配專用工件車
工件烘烤溫度：室溫～ 500℃，可調可控（PID 控溫）
配置：新型弧源 6-12 只可選、離子源、偏壓
系統：全自動控制系統，個性化的 Tech-Coating 控制菜單，安全保護系統
占地面積：L4000mm×W3000mm
該設備可制備TiN\CrN\AlCrN\ZrN\TiC\TiCN\TiAlN\TiAlCN\DLC膜等，非常適合生產企業大批量在刀具（鉆頭、銑刀、拉刀、絲錐、滾齒刀、車刀、刀粒等）、高精工模具（沖壓模具、剪切模具、成型模具、注塑模具等）及其他關鍵部件上鍍制單層/多層硬質涂層、耐腐蝕涂層等功能薄膜。
設備采用全自動的控制方式，先進的工藝流程控制模式，性能穩定可靠，操作簡單方便。并集成先進的新型弧源鍍膜技術和離子輔助前處理鍍膜技術，可鍍高質量、成膜致密、結合力好、硬度高的硬質涂層，大幅度提高工具及刀具使用壽命。該設備集成國際**技術，性能國內**。
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磁控濺射設備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領域：在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結構類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應，碳氫化合物在高溫下發生化學反應，生成膜先驅物，當樣品溫度合適時，這些膜先驅物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
CVD(化學氣相沉積)是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，它是很簡單的:兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內，
有人曾這樣形容磁控濺射技術——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面
近年來，新型太陽能電池技術不斷發展，鈣鈦礦電池作為其中的代表之一，一度成為人們關注的熱點。鈣鈦礦電池以其良好的光電轉化效果、簡單的制備工藝和原材料的充足性，被譽為是下一代光伏電池的主流技術之一。近日，
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