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高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī) ZHD300品牌
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一、整機(jī)簡(jiǎn)述
其主要用途有：
1. 適用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復(fù)合膜，例：銅、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等；
2. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜；例：氧化鉬、氟化鋰等；
3. 適用于有機(jī)材料蒸發(fā)；
4. 適用于掃描電鏡制樣；
5. 適用于太陽能電池、LED的研究和實(shí)驗(yàn)。
二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)
1.真空腔室
Φ300×H360mm，304優(yōu)質(zhì)不銹鋼真空腔室；
2.真空系統(tǒng)
復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真閥門高真空系統(tǒng)，數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)；
3.真空極限
≤8.0×10-5Pa；（設(shè)備空載抽真空24小時(shí)）；
4.漏率
設(shè)備升壓率：≤0.8Pa/h；
設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，設(shè)備真空度≤10Pa；
5.抽速
從大氣抽至5.0×10-3Pa≤13min；（設(shè)備空載）
暫無數(shù)據(jù)！
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