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一、整機簡述 特點/用途 ZHD350高真空電阻蒸發鍍膜機配4組蒸發源，兼容金屬材料蒸發與有機材料蒸發；該設備主機與控制一體化設計，PLC觸摸屏控制，操控方便，結構緊湊，占地面積小；該系列設備廣泛應用于高校、科研院所的教學、科研實驗以及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等，深受廣大用戶好評。 其主要用途有： 1. 適用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復合膜，例：銅、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等； 2. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜；例：氧化鉬、氟化鋰等； 3. 適用于有機材料蒸發； 4. 適用于掃描電鏡制樣； 5. 適用于太陽能電池、LED的研究和實驗。 二、設備主要技術參數 1.真空腔室 Φ350×H400mm（具體尺寸以實際設計為準），304優質不銹鋼真空腔室；前門材質為鍛鋁，表面處理采用鋁氧化工藝。腔室烘烤：室溫-150℃，清除吸附在腔體表面的殘留物。 2.真空極限 ≤5.0×10-5Pa；（設備空載）； 3.漏率 設備升壓率：≤0.8Pa/h； 設備保壓：停泵12小時候后，設備真空度≤8Pa； 4.基片臺尺寸 可鍍基片尺寸/面積：Φ100mm范圍內可裝卡各種規格基片； 5.基片臺水冷/旋轉 基片臺溫度：10～35℃，旋轉速度：0-20轉/分鐘； 6.蒸發源及電源 3對水冷式蒸發電極；1臺3000W金屬蒸發電源切換3組蒸發電極； 有機源：有機蒸發源（溫度600°），1組； 有機控溫蒸發電源：1套（獨立PID智能溫控蒸發） 7.膜厚不均勻性 ≤±5%（基片臺Φ80mm范圍內）； 8.控制方式 PLC+觸摸屏控制方式； 9.報警及保護 對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施；完善的邏輯程序互鎖保護系統。