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一.整機簡述： PLC觸摸屏控制，操控方便，結構緊湊，占地面積小。設備廣泛應用于高校、科研院所的教學、科研實驗以及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等； 1. 在微米級以上粉體顆粒表面沉積各種納米級單層及多層導電膜、半導體膜、絕緣膜 2.系統可用于粉體顆粒表面金屬化，由顆粒表面絕緣性質通過在表面涂覆金屬層達到表面導電，例如：金剛石顆粒表面鍍鉻、碳化硅表面鍍鈦，氧化鋁表面鍍鎳等。 3.系統可用于粉體顆粒表面反射率的改變，應用于化妝品、汽車等高端外觀粉體涂料，例如：玻璃微珠鍍氧化鈦等； 4.系統可用于粉體顆粒表面層成份改變，應用于新型合金材料改變其中某一成份含量； 5.系統可用于粉體顆粒表面沉積新材料，有效提高粉體固化粘結強度，例如：金剛石粉鍍鉻等； 6.廣泛應用于粉體燒結、3D打印原材料、粉體表面光學性能改變等行業及研究方向； 二.設備主要技術參數： 1真空腔室 φ350 mm×H350mm， 304優質不銹鋼真空腔室； 2真空系統 復合分子泵+直聯旋片泵+高真空氣/電動閥門高真空系統，數顯復合真空計； 3真空指標 極限真空優于6.6×10-4Pa（設備空載抽真空24小時）； 設備升壓率≤0.8Pa/h 4抽速 空載從大氣抽至5.0×10-3Pa≤20min； 5粉體托盤 不銹鋼粉體托盤內尺寸：Φ90mm x25mm,  含高頻振動裝置，擺動頻率0-10次/min可調，可放入30克粉振動鍍膜； 襯底加熱：室溫～300℃，PID智能控溫；  6濺射靶及電源 2英寸磁控濺射靶2只，磁控靶可兼容直流/射頻電源濺射；  1臺1kw直流脈沖濺射電源，1臺500W自動匹配射頻濺射電源； 7控制方式 PLC+觸摸屏控制方式； 8報警及保護 對泵、靶、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施；完善的邏輯程序互鎖保護系統。